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牛津仪器OmniGIS II气体注入系统
,从而实现无掩模纳米图案。OmniGIS II,牛津仪器的第二代气体注入系统,具有独特的特性,相比同行业的同类产品,它能使控制水平和准确性达到前所未见的高度。通气口可以自动识别气体源并快 速进行
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电镜制样 OmniGIS II牛津仪器
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OmniGIS II电镜制样 OmniGIS II气体注入系统
接引入可控制的流动气体方案,用于材料表面的刻蚀或沉积。该系统适用于样品制备、纳米焊接以及直写式光刻技术,可实现无掩模纳米图案。OmniGISII是牛津仪器的第二代气体注入系统,在控制水平和准确性方面
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牛津仪器OmniGIS II气体注入系统 速度快
光刻技术建立纳米结构,从而实现无掩模纳米图案。OmniGIS II,牛津仪器的第二代气体注入系统,具有独特的特性,相比同行业的同类产品,它能使控制水平和准确性达到前所未见的高度。通气口可以自动识别
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牛津仪器OmniGIS II气体注入系统 精度高
OmniGIS II,牛津仪器的第二代气体注入系统,具有独特的特性,相比同行业的同类产品,它能使控制水平和准确性达到前所未见的高度。通气口可以自动识别气体源并快 速进行气体源更换,同时可以安装
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牛津仪器OmniGIS II气体注入系统 应用样品制备
牛津仪器OmniGIS II气体注入系统新产品气体注入系统OmniGIS II,具有一套单端口、气体源注入系统(GIS)。该系统可以允许用户在SEM和FIB里构建纳米结构,以达到以前所未有的精度
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牛津仪器电镜制样
专为TKD分析设计的样品座,TKD是指透射菊池花样演示分析(Transmission Kikuchi Diffraction)技术,是一种用于检测微小尺度EBSD的最新方法,其空间分辨率比传统技术
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牛津仪器电镜制样
特色和优点包括第8代具有创新性的先进技术,实现从纳米线操作到TEM样品制备,再到电学和机械测量的各种应用。3轴样平台可以沿任意方向线性移动(全向性),在任何样品倾斜角度下都能实现正交导航。将样品快速
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电镜制样 牛津仪器TKD样品座牛津仪器
专为TKD分析而设计的样品座,TKD是指透射菊池花样演示分析(Transmission Kikuchi Diffraction)技术,是一种用于检测十几纳米尺度的EBSD分析方法。这种技术的空间分辨率
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牛津仪器气体注入系统 OmniGIS II
实现无掩模纳米图案。OmniGISII是牛津仪器的第二代气体注入系统,具有独特的特性。与同类产品相比,它能使控制水平和准确性达到前所未见的高度。通气口可以自动识别气体源并快速进行气体源更换,同时可以
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